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高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54299. Ni-2Ge, JMTR controlled, 290℃, 7.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54299. Ni-2Ge, JMTR controlled, 290℃, 7.
CSV
記述レベル
item
資料番号
O-54299
数量
1 枚.
日付
[1988年11月30日以降.]
1988-11-30/1988-11-30
出所・作成
義家, 敏正, 1948-
北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
主題
ニッケル合金
電子顕微鏡写真 Electron micrographs
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度
資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted)
大洗町 (茨城県 東茨城郡)
北海道札幌市北区北14条西9丁目
熊取町 (大阪府 泉南郡)
関係者名
義家, 敏正, 1948-
北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
資料の利用
原本現在使用不可.
原本の存在と所在
京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野.
範囲と内容
(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.
パーマリンクURL
https://da.rra.museum.kyoto-u.ac.jp/metadata/repositories/2/archival_objects/77353
ARK(former)
https://peek.rra.museum.kyoto-u.ac.jp/ark:/62587/ar114199.180047
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